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槽式湿法制程设备

全自动槽式清洗机

拥有多项自主知识产权,可应用于RCA清洗工艺、湿法刻蚀工艺、金属层湿法刻蚀工艺、炉管前清洗工艺及其它特殊工艺清洗需求、设备采用模块化设计,易于维护。

✨ 搭载药液浓度实时监控及高效回收系统,提高药液使用率。

✨ 可以搭载超声波、兆声波以及槽体流场控制技术,最佳化清洗能力。

✨ 柔性化设计,系统自动排程,多工位并发处理,实现高效率运行。

✨ 软硬件互锁安全装置,温度自动校准及过温保护,确保人员及机台安全。

✨ 可搭配一键换酸、Auto Pm等功能,提升机台维护效率。

✨ 多组机械手系统传递,支持“干进干出”需求,提高洁净度要求。


产品详情

                适用制程
     Wafer Clean,Etch,PR Strip
                适用尺寸     4/6/8/12 inch
                承载方式     标准Cassette、Loadport

                工艺指标

                工艺指标

     表面颗粒:≤300颗/片          -@0.1-0.2um Small Particle

表     面颗粒:≤5-10颗/片          @0.3um Particle

     金属残留:≤5E10 atoms/cm²

                软件支持     GEM/SECS接口,提供EAP MES等功能